主要规格及技术指标

溅射电流：0-150mA；
真空范围：5x10-3～5x10-1mbar；
旋转样品台直径：50mm；
溅射靶材：铂、金、铬、铱、铜、钛、铝、镍、钨等。

主要功能及特色

全自动抽真空和全自动操作的高真空沉积镀膜系统。

主要附件及配置

旋转机械泵(50L/min)+涡轮分子泵(70L/s)