主要规格及技术指标

1真空室：W400*L400*H500mm，方箱形奥氏体优质304不锈钢腔体；2.开门方式：前开门结构，方便更换材料以及取放样品。3.最大可镀工件直径：≤150mm； 4.溅射源靶基距：样品盘到磁控溅射靶源距离可调（50mm 至250mm，±30mm）5.极限真空度：优于6.6*10-5Pa

主要功能及特色

在光学玻璃、光学薄膜等材料表面沉积一层或多层金属或非金属薄膜,可以提高材料的反射、透射、偏振等光学性能；:在电子元器件表面沉积金属薄膜,可以提高其导电性能和稳定性,同时也可以保护元器件免受环境影响。

主要附件及配置

JSD400-III型双靶磁控溅射镀膜机是安徽嘉硕真空科技有限公司研发的第二代磁控溅射镀膜机系统，该设备为独立单室方箱型前开门结构。真空室尺寸约为W400*L400*H500具体实际尺寸可能会根据需要微调。在真空室底板上安装有二只可以调节角度的JSD-R60型2.5英寸标准磁控溅射靶枪。配备一台DC直流电源和一台RF射频电源可根据需要使用，真空室材质采用优质的奥氏体304不锈钢加工而成。可调节角度的磁控溅射靶溅出束流方向朝向中间自转的基片盘上，并在基片上沉积得到薄膜。